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什么是PVD真空镀膜

时间:2022-07-28    点击数:

众所周知,镀膜的工艺有很多种类,有常见的电镀法、氧化法,还有气相生成法、离子注入法、扩散法、涂布法、液相生成法等。

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其中气相生成法又可分为物理气相沉积法、化学气相沉积法和放电聚合法。

PVD工艺就是物理气相沉积法,由于这种工艺都是在真空环境下进行的,因此也称为这空离子镀膜技术。

PVD镀膜技术,是指在真空环境下,采用低电压,大电流的电弧放电技术轰击靶材,利用气体放电,使靶材蒸发,蒸发物质与气体都发生电离子作用,利用电场加速,使被蒸发的物质及其反应产生的物质沉积在工件上面。


本文网址:http://www.morlius.com/news/578.html

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